激光镀膜设备供应-沈阳鹏程-PLD300A型激光镀膜设备供应

脉冲激光沉积的应用领域

沈阳鹏程真空技术有限责任公司***生产、销售脉冲激光沉积，以下信息由沈阳鹏程真空技术有限责任公司为您提供。

脉冲激光沉积技术适合做的薄膜包括各种多元氧化物，氮化物，硫化物薄膜，金属薄膜，磁性材料等。

应用领域：

单晶薄膜外延（SrTiO3，LaAlO3）

压电薄膜（PZT，AlN，BiFeO3，BaTiO3）

铁电薄膜（BaTiO3，KH2PO4）

热电薄膜（SrTiO3）

金属和化合物薄膜电极（Ti，Ag，PLD300A型激光镀膜设备供应，Au，Pt，Ni，Co，SrRuO3，LaNiO3，pld300型激光镀膜设备供应，YZrO2，GdCeO2，LaSrCoFeO3）

半导体薄膜（Zn(Mg)O，AlN，SrTiO3）

高K介质薄膜（HfO2，CeO2，Al2O3，BaTiO3，SrTiO3，PbZrTiO3，LaAlO3，Ta2O5）

超导薄膜（YBa2CuO7-x，BiSrCaCuO）

光波导，光学薄膜（PZT，AlN，激光镀膜设备供应，BaTiO3，Al2O3，ZrO2，TiO2）

超疏水薄膜（PTFE）

红外探测薄膜（V2O5，PLD450型激光镀膜设备供应，PZT）

脉冲激光沉积介绍

脉冲激光沉积，是一种用途广泛的薄膜沉积技术。脉冲激光快速蒸发靶材，生成与靶材组成相同的薄膜。PLD 的独特之处是能量源（脉冲激光）位于真空室的外面。这样，在材料合成时，工作压力的动态范围很宽，达到10-10 Torr ~ 100 Torr。通过控制镀膜压力和温度，可以合成一系列具有独特功能的纳米结构和纳米颗粒。

另外，PLD 是一种“数字”技术，在纳米尺度上进行工艺控制（A°/pulse）。

沈阳鹏程真空技术有限责任公司以诚信为首 ，服务至上为宗旨。公司生产、销售脉冲激光沉积，公司拥有强大的销售团队和经营理念。想要了解更多信息，赶快拨打图片上的***电话！

脉冲激光沉积细节介绍

很多复杂氧化物薄膜在相对高的氧气压力（gt;100 Torr）下冷却是有利的。所有Pioneer 系统设计的工作压力范围。从它们的额定初始压力到大气压力。这也有益于纳米粒子的生成。

Pioneer PLD 系统的激光束入射角为45°，保持了激光密度在靶材上的均匀性，同时避免使用复杂而昂贵的光学部件。浅的入射角能够拉长靶材上的激光斑点，导致密度均匀性的损失。

为了避免使用昂贵的与氧气兼容的真空泵流体，消除油的回流对薄膜质量的影响，所有Pioneer 系统的标准配置都采用无油真空系统。

我们的研究表明靶和基片的距离是获得较佳薄膜质量的关键参数。Pioneer 系统采用可变的靶和基片的距离，对沉积条件进行较大的控制。

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