北京沈阳鹏程-激光镀膜设备价格

脉冲激光沉积简介

沈阳鹏程真空技术有限责任公司——***脉冲激光沉积供应商，我们为您带来以下信息。

【设备主要用途】

PLD450A型脉冲激光沉积设备采用PLD脉冲激光沉积技术，PLD300A型激光镀膜设备价格，用于制备高温超导薄膜、半导体膜、铁电薄膜、硬质薄膜以及微电子和光电子用多元氧化物薄膜及异质结，也可用于制备氮、碳、硅化合物及各种有机—无机复合材料薄膜及金刚石薄膜等。

【设备优点】

设备全程采用一键式操作抽气，关机，程序自动化定时操作。避免了繁琐的角阀，插板阀人工开启。

【设备主要组成】

设备由沉积腔室（单室球形或圆筒形）、样品加热转台、激光入射转靶、激光窗、电源控制系统、激光束扫描系统、计算机控制转靶的旋转、脉冲准分子激光器等组成

PLD450型脉冲激光镀膜介绍

沈阳鹏程真空技术有限责任公司——***脉冲激光沉积供应商，pld300型激光镀膜设备价格，我们为您带来以下信息。

主要用途：　　

用于制备超导薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、超硬薄膜等。适用于各大专院校、科研院所进行薄膜材料的科研与小批量制备。　　

系统组成:　　

主要由溅射真空室、旋转靶台、基片加热台、工作气路、抽气系统、安装机台、真空测量及电控系统等部分组成。　　

PLD450型脉冲激光镀膜介绍

以下是沈阳鹏程真空技术有限责任公司为您一起分享的内容，沈阳鹏程真空技术有限责任公司***生产脉冲激光沉积，欢迎新老客户莅临。

技术指标：

极限真空度：≤6.7×10 Pa　　

***真空时间：从1×10 Pa抽至5×10 Pa≤20min　　

系统漏率：6. 7×10-7Pa.L/S；　　

真空室：Ф450球型真空室 ，PLD450型激光镀膜设备价格，　　

基片尺寸：可放置4″可实现公转换靶位描等基片加热可连续回转，激光镀膜设备价格，转速5-60转/分基片与蒸发源之间距离300-350mm可调。　　

二维扫描机械平台，执行两自由度扫描，控制的内容主要有公转换靶、靶自转、样品自转、样品控温、激光束扫，

质量流量控制器1路　　

烘烤温度：150℃数显自动热偶控温（高温炉盘，数显自动热偶控温可加热到800℃）